镍及镍合金制件的抛光

   镍及镍制件的机械抛光    

自19世纪70年代以后，高整平光亮酸性镀铜和高整平光亮镀镍技术已日臻完善，大部分装饰性电镀铜/铬或镍铁/铬制件已可不用机械抛光镍铬表面，即可达到各种零部件装饰性的要求。只有少数光亮度要求特别高或反射率要求特别高的部件，在镀光亮镍后或在镀铬后再进行适当的自动抛光机的机械抛光。这种类型的机械抛光大都采用常规的机械抛光设备进行。

随着电脑的日益普及，铝基化学度铬镍磁碟的应用也越来越普遍。具有高机械强度、高耐蚀性、同时又无磁性化学镀镍磷（高磷）合金镀层已被确认为高密度磁记录介质层的最佳底镀层，这已为许多专利所证明。化学镀磷合金可以在无外界电流的条件下直接在经过预处理过的铝碟上施镀，方法简单，生产效率高，而且所得的镍磷镀层具有很好的结合力，结晶细小，厚度分布十分均匀。镍磷合金磁碟的机械抛光由塑料棍、冷却剂、喷口和抛光带组成。抛光时控制轴承的内压或外压，将含磨料粒子的抛光带压在被抛光的Ni—P合金磁碟上，同时冷却剂通过喷口Ni-P镀层与抛光带的界面，转动抛光带即可进行自动抛光机机械抛光。抛光时也可用不含磨料粒子的抛光带，磨料与冷却剂混合后由喷口喷向抛光带，磨粒与冷却剂混合后由喷口喷向抛光带与磁碟件的间隙，磨料粒子（如Al2O3）对冷却剂的混合比是Al2O3：水=（2～3)g:1000mL。

 自动抛光机的抛光带通常用编织聚酯纤维布，厚度100υm,抛光带可涂上研磨剂粒子和粘合剂的混合物。研磨剂可用金刚石、氧化铝 、碳化硅、氧化铬、氧化铁、氧化铈或者它们混合物。研磨剂的粒径通常在2υm～3υm左右，对铝磁碟最常见的是氧化铝做磨料粒子。

在美国专利中介绍了一种用冷却剂与磨料的混合液进行机械抛光化学镀镍磷磁碟的方法。这种混合液含有两种氧化铝，，一种是六边形未经未经润滑处理Al2O3，其粒径为1υm～10υm（通常用3υm～5υm），Al2O3的含量体积分数为1%～5%；另一种Al2O3为胶体状Al2O3悬浮液，其浓度为5%～10%（通常是6%～8%），粒径在10?～1000?，它也可以用涂附了Al2O3的石英粉来代替纯的Al2O3。悬浮液的PH为4～6（5～6为佳），它含有少量的表面活性剂。若加入羟丙基纤维素，可提高悬浮液的粘稠度并使PH值升高至7。